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          語言:

          UV激光曝光系統

          掃描曝光方式特點:  
          1.光束垂直高度<=0.23°; 
          2.工作幅面一般100mm×100mm,可定制; 
          3.光斑能量密度高; 
          4.不需掩膜,可精確曝光三維圖形; 
          5.可快速修改任意曝光圖形。 

          掩膜曝光方式特點:

          1.光束直徑可達φ100mm,可定制; 
          2.光束發散角小,光束準直度可達到5μrad; 
          3.可精確曝光三維圖形; 
          4.對環境溫度要求不高。
          應用領域:FPC、數碼產品、印刷等。
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